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純水設(shè)備案例

半導(dǎo)體超純水設(shè)備

2021/5/2 15:43:10
半導(dǎo)體超純水設(shè)備

半導(dǎo)體超純水設(shè)備

詳細(xì)介紹

上海純水設(shè)備】半導(dǎo)體的生產(chǎn)必須要用的超純水,半導(dǎo)體超純水設(shè)備常用工藝:

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。

2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.20.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(18MΩ.CM)(最新工藝)

3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn)殺菌器→0.20.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(17MΩ.CM)(最新工藝)。

4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.20.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(15MΩ.CM)(最新工藝)。

5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn)殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) (15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。

半導(dǎo)體(semiconductor),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多,按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類(lèi)。鍺和硅是最常用的元素半導(dǎo)體;化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化鎵、磷化鎵等;-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外,還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。反滲透純水設(shè)備 上海EDI處理設(shè)備 上海工業(yè)純水設(shè)備 上海超純水設(shè)備 海醫(yī)水設(shè)備 海實(shí)驗(yàn)室水設(shè)備


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